Fil de base en fil diamanté pour la découpe de plaquettes de silicium

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Modèle: 0002

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Câble métallique en acier cuivré 8

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Fil de base en fil diamanté pour la découpe de plaquettes de silicium

Notre fil central revêtu de laiton à haute résistance est le matériau de base essentiel pour la fabrication de fil diamanté électrolytique de qualité supérieure.

Avec une résistance à la traction ultra élevée, une consistance dimensionnelle stable, un revêtement en laiton uniforme et d'excellentes performances d'adhérence de surface, le fil central constitue une base parfaite pour la fixation des grains abrasifs diamantés pendant le processus de galvanoplastie. Il garantit efficacement la stabilité structurelle, la durabilité de coupe et les performances globales du fil diamanté fini.

Le fil diamanté fini, traité à partir de notre fil central revêtu de laiton, est largement utilisé dans le tranchage de haute précision de matériaux durs et cassants dans les industries photovoltaïques et des semi-conducteurs, notamment le silicium monocristallin, le silicium polycristallin, les lingots de silicium et les boules de silicium.

Adoptant la technologie de tranchage de fil diamanté à abrasif fixe, le fil traité atteint une épaisseur de coupe ultra-fine, une perte de saignée minimale, une surface de plaquette lisse et une efficacité de tranchage élevée. Il améliore considérablement le taux de rendement des tranches de silicium et réduit les coûts de production globaux pour les entreprises de fabrication de cellules solaires et de tranches semi-conductrices.

Notre fil central revêtu de laiton prend en charge des diamètres de fil et des paramètres mécaniques personnalisés pour correspondre à différentes générations de production de fils diamantés et d'équipements de découpage multifils, offrant des performances fiables et constantes pour la production de masse de plaquettes de silicium.